IMPROVEMENTS OF SOME CHARACTERISTICS FOR OPTICAL THIN FILMS WITH ION-ASSISTED DEPOSITION
Journal Name:
- Savunma Bilimleri Dergisi
Keywords (Original Language):
| Author Name | University of Author | Faculty of Author |
|---|---|---|
Abstract (2. Language):
Bu çalışmada, iyon destekli kaplama tekniği ile soğuk-katot plazma kaynağı tarafından oluşturulan optik ince filmin özelliklerinin analizi yapılmıştır. Bu işlem optik ince filmin, optik ve fiziksel karakteristiklerini artırmak için gerçekleştirilmiştir. Sistemin sürücü voltajı, basıncı ve pompalama hızı ele alınmış, silikon tabakası ve mikroskop camı üzerinde kaplanan, TiO2 ve Ta2O5’in bazı karakteristikleri incelenmiştir. TiO2 ve Ta2O5 için kırılma indisleri, kalınlık ve gerilimler hesaplanmış ve filmlerin nem kararlılığı incelenmiştir. Farklı pompalama hızı ve gaz akış hızlarında farklı filmlerin kırılma indislerinin değişimleri üzerinde çalışılmıştır.
Bookmark/Search this post with
Abstract (Original Language):
This study analyses the properties of thin films produced by a broad-beam cold-cathode plasma source with Ion Assisted Deposition (IAD) technique. The procedure was carried out to enhance the optical and physical characteristics of optical thin films. The effects of the drive voltage, the pressure and the pumping speed of the system are discussed. Some coating characteristics of TiO2 and Ta2O5 films deposited on silicon wafers and microscope slides were investigated. Refractive index, thickness and stress were calculated for TiO2 and Ta2O5 and moisture stability of these films were examined. Finally, the variations of refractive index of different films at different pumping speed and flow rate of gas were discussed.
FULL TEXT (PDF):
- 2
33-47